隨著電子產品的應用越來越廣泛，電子設備的需求量就會在不斷的增長中，在半導體芯片生產的過程中不但會產生大量的工業污水而且還會產生具有污染性的工業廢氣，面對工廠產生的這部分工業廢氣應如何處理，本文了解關于半導體芯片生產工業的廢氣處理設備。

　　光(guang)電(dian)器(qi)件存(cun)(cun)儲處理(li)芯(xin)片制造廠的(de)(de)工藝印刷(shua)廢(fei)(fei)液(ye)主耍其(qi)中(zhong)包含(han)了磷酸霧(wu)、氟化物、氯化物、余氯、氫(qing)陽極(ji)(ji)氧(yang)(yang)化的(de)(de)鈉(na)、磷酸霧(wu)等的(de)(de)酸/堿印刷(shua)廢(fei)(fei)液(ye)及氮陽極(ji)(ji)金屬氧(yang)(yang)化的(de)(de)物、二陽極(ji)(ji)氧(yang)(yang)化的(de)(de)硫、非(fei)二氧(yang)(yang)化氮總烴等的(de)(de)設計印刷(shua)廢(fei)(fei)液(ye)，具(ju)備著析出性的(de)(de)VOCs及酸堿平衡印刷(shua)廢(fei)(fei)液(ye)主耍來(lai)緣于對存(cun)(cun)儲處理(li)芯(xin)片的(de)(de)清潔工作、均膠(jiao)(jiao)、去(qu)膠(jiao)(jiao)、刻蝕、成像全(quan)過程中(zhong)所產生的(de)(de)，整部件的(de)(de)印刷(shua)廢(fei)(fei)液(ye)氧(yang)(yang)化還原電(dian)位小且排放口量大(da)。

　　半導體芯片印刷廢(fei)(fei)水(shui)采用了的是洗(xi)(xi)條劑(ji)塔(ta)印刷廢(fei)(fei)水(shui)解(jie)決設施(shi)設備去解(jie)決的，洗(xi)(xi)條劑(ji)塔(ta)分立試(shi)和離心(xin)(xin)式，這倆者(zhe)二(er)者(zhe)之內的有什么區別嗎就取決立試(shi)印刷廢(fei)(fei)水(shui)洗(xi)(xi)條劑(ji)塔(ta)是汽液兩相(xiang)回流(liu)學(xue)習(xi)，而離心(xin)(xin)式印刷廢(fei)(fei)水(shui)洗(xi)(xi)條劑(ji)塔(ta)是汽液兩共面叉流(liu)學(xue)習(xi)。

　　洗條塔廢氣處理設備主要由循環水箱、循環水管路、除霧層、填料層以及塔體組成，設備的工作流程大致為：酸/堿性廢氣收集→酸/堿式洗滌塔→離心風機→煙囪(達標排放)。

　　除非使(shi)用(yong)洗(xi)潔塔生產(chan)設備還能夠(gou) 進行(xing)使(shi)用(yong)沸石(shi)轉(zhuan)輪或者是是TO直燃式(shi)熱脫色焚(fen)燒秸稈爐。

　　溫馨提示：半導體工業廢氣需先經過預處理過濾裝置進行大顆粒粉塵及雜質的去除才能進入沸石轉輪吸附裝置或者是TO直燃式熱氧化焚燒爐進行后續的處理。